سامسونگ فاندری، زیرشاخه‌ی سامسونگ الکترونیکس که در صنعت تراشه فعالیت می‌کند، آخرین نقشه‌ی راه خود درباره لیتوگرافی منتشر کرده است. این شرکت در سال ۲۰۲۵ تولید لیتوگرافی SF2 (کلاس دو نانومتری) را آغاز می‌کند و لیتوگرافی SF1.4 (کلاس ۱٫۴ نانومتری) در سال ۲۰۲۷ عرضه خواهد شد.

بر اساس گزارش انندتک، لیتوگرافی SF2 با فرض ثابت بودن سرعت کلاک و پیچیدگی تراشه، مصرف انرژی را ۲۵ درصد نسبت به SF3 کاهش می‌دهد، قدرت را ۱۲ درصد افزایش می‌دهد و سطح تراشه را پنج درصد بیشتر می‌کند.

سامسونگ قصد دارد تا بهبود‌هایی را در SF2 اعمال کند و تراشه‌های مبتنی بر این لیتوگرافی را با استفاده از استانداردهای مدرن مانند LPDDR5x و HBM3P و PCIe Gen6 تولید کند، تا رقابت‌پذیری آنها افزایش یابد.

سامسونگ پس از SF2 به سمت SF2P در سال ۲۰۲۶ می‌روید که برای رایانش با قدرت بالا (HPC) بهینه شده است. یک سال بعد، لیتوگرافی SF2A با تمرکز بر صنعت خودرو عرضه خواهد شد. در همان زمان، تولید انبوه لیتوگرافی SF1.4 آغاز خواهد شد.

لیتوگرافی دو نانومتری سامسونگ تقریباً در همان زمانی که لیتوگرافی TSMC N2 (کلاس دو نانومتری) را عرضه می‌کند، عرضه خواهد شد. اینتل نیز اعلام کرده است که لیتوگرافی 20A (کلاس دو نانومتری) را به تقریباً یک سال قبلتر به مشتریان خود ارائه خواهد داد.

سامسونگ اعلام کرده است که به سرمایه‌گذاری در فناوری‌های فرکانس رادیویی ادامه خواهد داد. لیتوگرافی پنج نانومتری RF این شرکت در نیمه‌ی اول سال ۲۰۲۵ آماده می‌شود. این لیتوگرافی مصرف انرژی را نسبت به لیتوگرافی ۱۴ نانومتری RF به میزان ۴۰ درصد کاهش می‌دهد و تراکم ترانزیستورها را حدوداً ۵۰ درصد افزایش می‌دهد.

سامسونگ در سال ۲۰۲۵ تولید قطعات نیمه‌هادی گالیوم نیترید (GaN) را نیز آغاز خواهد کرد. این تراشه‌ها در محصولات الکترونیکی، دیتاسنترها و صنعت خودرو استفاده خواهند شد. سامسونگ همچنین قصد گسترش خط تولید خود را در کشورهای مختلف دارد.

اگر به اخبار دنیای تکنولوژی علاقه مند هستید، ما را در شبکه‌های اجتماعی مختلف تلگرام، روبیکا، توییتر، اینستاگرام و آپارات همراهی کنید.